半導體（tǐ）用臭氧水去除有機（jī）物質臭（chòu）氧（yǎng）濃度需要達到多少

使用臭氧水可去除的物質以及所需臭氧的濃度

利用臭氧的強氧化能力，可以實現分解並（bìng）去除大量的雜（zá）質。

根據雜質（zhì）的形（xíng）狀與數量的（de）不（bú）同，所需濃度也將有所變化，請參考下圖數據。

此外（wài），如（rú）將稀氫（qīng）氟酸（suān）與臭氧水同時使用，去除雜質的效果（guǒ）將（jiāng）倍增（zēng）。